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  장비명  

  CVD Chamber Plant

  용  도 

  고온 증착(Chemical Vapor Deposition)을 위한 Chamber 시설.

1) 700도 이하 광학제품용 증착 Chamber
2) 최고 1600도에 이르는 SiC 증착용 Chamber
3) 온도 제어정밀도 ±0.5°C
4) 변전장치, Chiller, Gas Utility, 집진및 자동화 관제 System 일체의 시설환경 제공 [이 게시물은 최고관리자님에 의해 2017-02-16 10:14:57 기타장비에서 복사 됨]

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